等离子体蚀刻及其在大规模集成电路制造中的应用

收藏
  • 【作者】张海洋 等编著
  • 【关键词】大规模集成电路 集成电路工艺 等离子刻蚀
  • 【出版社】清华大学出版社
  • 【出版日期】2018
  • 【ISBN】978-7-302-48959-7
  • 【中图分类号】 TN405.98
  • 【内容简介】本书共9章,基于公开文献全方位地介绍了低温等离子体蚀刻技术在半导体产业中的应用及潜在发展方向。以低温等离子体蚀刻技术发展史开篇,对传统及已报道的先进等离子体蚀刻技术的基本原理做相应介绍,随后是占据了本书近半篇幅的逻辑和存储器产品中等离子体蚀刻工艺的深度解读。此外,还详述了逻辑产品可靠性及良率与蚀刻工艺的内在联系,聚焦了特殊气体及特殊材料在等离子体蚀刻方面的潜在应用。最后是先进过程控制技术在等离子体....全部展开
  • 【页码】376页
  • 【丛书名】高端集成电路制造工艺丛书
  • 【文献类型】图书
  • 【所属馆】

    浙江图书馆 杭州图书馆 滨江区图书馆 湖州市图书馆

  • 【获取途径】
联合资源统一检索系统 超星 V2.0
已保存的题录(0)
选出输出字段:
加载保存列表...
清空文件夹
注:
通过勾选,使对应参与检索,从而可以轻松获得更全面的检索结果。