半导体先进光刻理论与技术

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  • 【作者】安德里亚斯·爱德曼 著;李思坤
  • 【关键词】半导体光电器件-光刻设备-研究
  • 【出版社】化学工业出版社
  • 【出版日期】2023.7
  • 【ISBN】978-7-122-43276-6
  • 【中图分类号】 TN305.7
  • 【内容简介】本书是半导体先进光刻领域的综合性著作, 介绍了当前主流的光学光刻、先进的极紫外光刻以及下一代光刻技术。主要内容涵盖光刻理论、工艺、材料、设备、关键部件、分辨率增强、建模与仿真、典型物理与化学效应等; 介绍了光刻技术的前沿进展, 还总结了极紫外光刻的特点、存在问题与发展方向。书中融入了作者对光刻技术的宝贵理解与认识, 是作者多年科研与教学经验的结晶。全部展开
  • 【页码】304页
  • 【文献类型】图书
  • 【所属馆】

    浙江图书馆

  • 【获取途径】
联合资源统一检索系统 超星 V2.0
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