- [图书] 半导体先进光刻理论与技术
- 作者:安德里亚斯·爱德曼著;李思坤
- 出版社:化学工业出版社
- 出版日期:2023.7
- ISBN:978-7-122-43276-6
- 内容简介:本书是半导体先进光刻领域的综合性著作, 介绍了当前主流的光学光刻、先进的极紫外光刻以及下一代光刻技术。主要内容涵盖光刻理论、工艺、材料、设备、关键部件、分辨率增强、建模与仿真、典型...
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